PR (Photo Resist, 포토레지스트)는 빛을 받으면 성질이 변하는 특성이 있는 물질이다. (거의 Polymer임) 포토공정에서 노광을 통해서 패턴을 만들려면 PR을 잘 사용해야 한다. PR 구성 성분 용매, 레진, 노볼락 폴리머 PR은 크게 3가지 성분으로 구성된다. 1. 용매 (Solvent) : 코팅을 하기 위함 2. 레진 (Resin) : 기판과의 접착력을 높이기 위해서 필요 3. 노볼락 (Novolak = Phenol + Formaldehyde + Acid 촉매로 구성된 Polymer) : 단파장의 광을 받으면 산(Acid, H+)으로 성질이 변하는 물질. PAC(Photo Active Compound) or PAG(Photo Active Generator) 물질을 사..
